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포토리소[photolithography] - 가공방법 및 적용분야에 대해서


카테고리 : 레포트 > 공학,기술계열
파일이름 :포토리소[photolithograph.pptx
문서분량 : 17 page 등록인 : leewk2547
문서뷰어 : MS-파워포인트뷰어프로그램 등록/수정일 : 12.06.14 / 12.06.15
구매평가 : 다운로드수 : 1
판매가격 : 2,500

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보고서설명
안녕하세요, 저희는 포토리소에 대해서 발표하겠는데요,
포토리소의 개요부터 시작해서 마지막으로 적용분야까지 설명을 하겠습니다.
본문일부/목차
먼저, 개요를 설명하겠습니다. 포토리소는 포토리소그래피의 줄임말인데,
회로를 설계 하고 나서 그 걸 유리판 위에 금속패턴으로 만듭니다.
그걸 마스크라고 하는데, 여기에 빛을 쏘면 생기는 그림자를 웨이퍼에 복사하는 기술입니다.
말로 설명하면 어려운데, 이 그림을 보면 쉽습니다.
(그림설명)
이 포토리소는 반도체의 제조 공정에서 가장 중요한 공정입니다.
참고로 Lithography는 라틴어로 돌이라는뜻의 lithos, 또 그림 graphy의 합성어입니다.
옛날에는 인쇄기술로 썼는데, 지금은 반도체 노광공정 기술을 말합니다.
이 포토리소를 통해서 반도체 미세화가 가능해진겁니다.

그리고 이건 별로 중요한 건 아니지만, 포토리소는 광학계에 따른 두 가지 방식이 있다는 설명입니다.
왼쪽 그림은 근접 노광, 오른쪽 그림은 투영 노광 방식이라고 하는데,
딱 봐도 오른쪽 그림이 더 좋아 보입니다.
근접 노광에서는 마스크와 웨이퍼 사이에서 가스 발생이나 감광제가 묻거나 하는 현상이 생겨서,
마스크 수명이 짧아지고 해상도도 떨어져서 요즘은 안 씁니다. 옛날에 쓰던 겁니다.
또, 그림에는 안 나와있지만 (왼쪽그림을 가리키며) 여기 이 그림에서 이 갭 부분 없이 딱 달라붙어 있는 것도 있는데
그건 밀착 노광 방식이라 하는데, 그것도 안 씁니다. (왼쪽그림지목)이거랑 똑같은 겁니다.
그냥 요즘은 쓰는 방식은 여기 이거 (오른쪽 그림지목) 투영 노광 방식이다, 하는 것만 알아두면 됩니다.
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