해피레포트 - 도핑기술,확산공정,이온주입공정 구성과 장단점

카테고리 : 레포트 > 기타 파일이름 :도핑(doping)기술에_대하여.hwp 문서분량 : 8 page 등록인 : heundle 문서뷰어 : 한글뷰어프로그램 등록/수정일 : 11.11.14 / 12.02.16 구매평가 : 다운로드수 : 2 판매가격 : 1,500 원

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보고서설명
◈ 도핑(Doping) 기술 도핑(Doping) 이란? N형 도핑 P형 도핑 운반자 농도 ◈ 확산(Diffusion) 공정 확산(Diffusion) 공정 확산(Diffusion)의 종류 확산 공정의 종류 ◈ 이온 주입(Ion implantation) 공정 이온 주입(Ion implantation) 장·단점 장치 구성 ☞ 자료를 참고하시고 반드시 본인의 의견을 추가하셔서 제출해야 좋은점수를 받으실수있습니다. ☞ 이자료는 해피레포트 환불정책 동의자료입니다. (부적절한자료일경우 100% 환불)

본문일부/목차
◈ 도핑(Doping) 기술 도핑(Doping) 이란? N형 도핑 P형 도핑 운반자 농도 ◈ 확산(Diffusion) 공정 확산(Diffusion) 공정 확산(Diffusion)의 종류 확산 공정의 종류 ◈ 이온 주입(Ion implantation) 공정 이온 주입(Ion implantation) 장·단점 장치 구성 ▣ 운반자 농도 ● 반도체에 도핑을 하면, 이 도핑 농도에 따라 다수 운반자의 농도가 고유 운반자 농도(고유 반도체에서의 운반자 농도)보다 증가하게 된다. ● 하지만 도핑된 반도체의 다수 운반자 농도와 소수 운반자 농도를 곱하면, 고유 운반자 농도의 제곱이 되는 것은 변하지 않는다. ● 예를 들어 어떤 온도에서 고유 운반자(전자와 정공) 농도가 10¹³/cm³ 라고 해 보자. 만약에 N형으로 도핑된 농도가 10¹⁶/cm³ 라면, 정공의 농도는 10¹⁰/cm³ 가 된다. ● 그렇다면, 다수 운반자의 농도는 사실상 도핑 농도에 따라 결정되기 때문에 소수 운반자의 농도도 도핑농도에 의해 영향을 받는다는 것을 쉽게 알 수 있다. ☞ 자료를 참고하시고 반드시 본인의 의견을 추가하셔서 제출해야 좋은점수를 받으실수있습니다. ☞ 이자료는 해피레포트 환불정책 동의자료입니다. (부적절한자료일경우 100% 환불)

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