해피레포트 - [신소재] 박막증착 기술보고서<스퍼터링&CVD>

카테고리 : 레포트 > 공학,기술계열 파일이름 :스퍼터링CVD.hwp 문서분량 : 4 page 등록인 : JJunyee7 문서뷰어 : 한글뷰어프로그램 등록/수정일 : 09.06.14 / 09.06.14 구매평가 : 다운로드수 : 7 판매가격 : 400 원

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보고서설명
최근 많이 이용되고 있는 박막증착 기술 스퍼터링과 CVD란 무엇이며 최근 산업동향을 조사한 보고서입니다 [참고자료] ․ 어플라이드사이언스(주) ․ 구글, 네이버, 다음 검색 - 키워드 ‘스퍼터링, CVD

본문일부/목차
목차 1. 목 적 2. Sputtering 3. CVD 4. 결 론 5. 참고문헌 // 본문내용 1. 목 적 Sputtering 공정과 CVD 공정을 배워 보았는데 현재 산업의 Sputtering과 CVD 공정의 동향과 이용되는 산업에는 무엇이 있는지 조사하고 자신의 이론을 바탕으로 알아보 Sputtering 스퍼터링(Sputtering)은 PVD에 해당하는 증착법 중의 하나이다. 이론적으로 배웠던 스퍼터링의 종류에 DC planar diode 스퍼터링, Triode 스퍼터링, Magnetron 스퍼터링, RF 스퍼터링, Ion beam 스퍼터링 기술 등이 있다. 각각의 스퍼터링 기술 마다 공정의 특성이 달라 그에 따른 공정을 선택하여 제품을 생산하고 있다. 이와 같은 스퍼터링 공정 중 대표적인 스퍼터링 기술은 Magnetron 스퍼터링법 이라고 할 수 있는데 Sputtering Target 뒷면에 자장을 인가하여 Plasma 내의 전자가 자장의 방향과 수직으로 나선운동을 하면서 Target 주위로 집중되도록 하는 방식으로 Sputtering Target 주변에 높은 밀도의 Plasma 형성할 수 있으므로 Sputtering 공정의 단점인 낮은 증착 속도를 높일 수 있어 대부분의 Sputtering 공정에서 이용되고 있는 추세이다.

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