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카테고리 : 레포트 > 기타 파일이름 :.hwp 문서분량 : 3 page 등록인 : CPIA_jykim 문서뷰어 : 
한글뷰어프로그램등록/수정일 : 07.05.50 / 09.12.29 구매평가 : 
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- 같은분야 연관자료
- 보고서설명
- 양극처리 도금방지처리 와트욕 크롬도금표준액 헤셀 / ()
- 본문일부/목차
- 1. 헐셀 시험법
2. 와트욕
3. 니켈 도금의 일상 관리
4. 크롬도금 표준액
5. 3가 크롬을 만들어 주는 방법
6. 걸이
7. 도금방지처리
8. 양극처리
1. 헐셀 시험법
- 음극 시험판에 연속되는 넓은 범위의 전류 밀도에서 석출이 되도록 한 것이다.
● 석출상태 관리
- 화학 성분으로는 얻을수 없는 성분
- 화학 분석으로는 시간이 걸리는 성분
- 상당히 미량이면서 도금에 영향을 주는 성분
- 도금층의 형상과 잘래에 생길지도 모르는 액의 사고를 예측
● 가장 좋은 예는 불순물의 검출, 피트 발생, 광택제의 과 부족, 내부응력, 광택제 소모량 등 많은 것을 알아 낼수 있다.
- 음극 : 광택있는 평활한 구리판, 황동판 또는 철판을 사용
- 양극 : 용해성 양극판을 사용
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