국가 과학기술의 지도를 획기적으로 뒤바꿀 대형 국책사업인 나노종합팹이 국토의 중심일 뿐 아니라 과학기술계의 메카인 대덕연구단지 내에 만들어지게 됐다. 이번 사업자 선정으로 나노기술을 선진국 수준으로 끌어올리겠다는 정부의 ‘나노기술종합발전계획’은 그 첫단추가 끼워졌고 한국과학기술원(KAIST)을 중심으로 한 나노기술연구는 이를 계기로 본격화될 전망이다. 그동안 우리나라의 NT분야는 미국을 100으로 할 때 40 정도의 수준에 머물러있다는 지적을 받아왔으며 연구인력과 시설 또한 태부족한 실정이었다. 그러나 6개 사업자가 나노팹 유치경쟁에 나서면서 상대방을 비하하는 발언과 정치적인 로비 등으로 상호 불신의 골이 깊어지는 등 부작용을 어떻게 효과적으로 극복하느냐가 시급한 과제로 대두되고 있다.
◇나노팹 선정 배경=NT가 향후 국가과학기술의 세계 경쟁력을 좌우할 한 분야로 인식되면서 그동안 국가차원의 지원이 절실하다는 지적이 많이 제기돼 왔다. 이에 따라 과학기술부는 NT를 국가 유망산업으로 지정하고 본격 육성하기 위해 지난해 7월 ‘나노기술종합발전계획’을 수립하고 1차 사업으로 나노종합팹센터를 구축키로 했다. 이번 공모에서는 KAIST·한국과학기술연구원(KIST)·포항공대·세종대·충북대·성균관대 등 6개 기관이 유치 신청서를 제출해 6대1의 경쟁률을 보이는 등 과학기술계 전체의 관심이 집중되기도 했다.
이번 심사에서 유치신청 사업자들은 시설입지, 사업계획, 사업능력 등을 종합적으로 평가받아 KAIST가 85.3점으로 1위를 차지했다. 그렇지만 2위인 성균관대 컨소시엄이 83.9점으로 근소한 차이를 보였으며 포항공대도 79.9점 등 높은 점수를 받아 나노기술개발추진위원회(위원장 황정남)가 선정작업에 애를 먹기도 했다. 이 과정에서 KAIST는 국토의 중앙에 위치해 전국 각지로부터 접근이 용이하고 대덕연구단지내의 기존 인프라가 우수한데다 주변 출연연과 네트워크로 연결된 위성랩 개념을 도입해 팹활용의 효율성을 제고하고 양질의 연구지원서비스를 제공할 수 있다는 점이 높이 평가됐다. 또 관련인력, 시설 등 주관기관의 지원의지가 우수하고 팹 전문경영인사를 사업책임자로 영입한 점 등 시설입지, 사업계획, 사업능력의 모든 분야에서 전반적으로 우수하다는 평가를 받았다.
◇정부지원 어떻게 되나=나노팹은 과학기술부가 오는 2010년까지 3단계로 나뉘어 나노분야에 총 1180억원을 투자하는 대형 프로젝트로 연구자들이 나노기술을 공동으로 연구할 수 있는 장비와 건물 등 나노관련 인프라를 구축하게 되며 올해에만 정부예산 250억원과 민간부문 104억원 등 총 354억원이 투입된다. 올해부터 1단계 사업이 완료되는 2005년까지 과학기술부는 나노팹 팹시설 및 장비구축을 완료하고 본격적인 서비스에 들어갈 예정이다. 특히 향후 2, 3차로 선정할 특화된 나노팹과 네트워크를 구축, 센터의 자립기반을 강화하는 등 사업기간이 완료되는 2010년 이후는 독립적으로 운영된다. 나노종합팹센터가 본격 서비스에 들어가는 3년 후부터는 그동안 나노소자·소재·공정 프런티어사업과 국책연구사업, 창의 및 국가지정연구실(NRL)사업 등과 연계 시스템을 갖추게 될 전망이어서 국내에서도 세계적인 수준의 나노기술 연구개발 인프라가 구축될 것으로 예상되고 있다.
◇과제와 전망=나노팹 사업자 선정으로 정부의 나노기술 개발사업은 본궤도에 오르게 됐다. 그러나 아직 갈 길은 멀다. 우선 이번 공모를 통해 경쟁관계에 놓여있던 대학과 연구기관, 기업체, 지자체 등이 사심을 버리고 국가 나노사업을 위해 힘을 합쳐야 한다. 이를 위해 정부도 강력한 나노육성 의지를 갖고 있는 사업자들을 위해 당초 2005년까지 설립키로 한 ‘특화팹센터’를 2003년까지로 앞당기는 등 국가 기술력을 나노기술개발에 총결집시킬 방침이다. 특히 KAIST를 중심으로 산·학·연에 종합적인 나노관련 연구지원 서비스의 제공이 가능토록 해 분야별 기술수준이 한단계 업그레이드될 것으로 예상되고 있다.
나노팹에 클라스1∼1000급의 청정실이 설치되면 국내에서도 나노소자 제작용 마스크의 설계·제작, 식각, 산화, 후공정 처리장비를 일괄 구비하게 돼 종합적인 연구가 가능해질 전망이다. 또 올해 시가 50억원 상당의 E빔 리소그래피와 25억원짜리 레이저빔 라이터를 비롯 30억원대를 호가하는 저압화학증착(LPCVD), 플라즈마화학증착(PECVD) 등 필름 증착장비, 전·후처리 장비나 반도체의 P/N접합을 형성하는 데 이용되는 임플랜터 등을 도입하게 되면 당장 내년부터 반도체 분야의 연구 질이 한단계 올라설 것으로 예상된다. <대전=박희범기자 hbpark@etnews.co.kr>
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