해피레포트 - 삼성전자, 채널구조 3배 개선 `TFT 신기술` 개발

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보고서설명
삼성전자, 채널구조 3배 개선 `TFT 신기술` 개발

본문일부/목차
삼성전자가 차세대 디스플레이·반도체 소자에 폭넓게 쓸 수 있는 ‘비정질 산화물 박막트랜지스터(TFT)’ 신기술을 개발하는데 성공했다. 비정질 산화물 TFT 기술은 현재 양산 적용중인 비정질 실리콘 TFT를 대체할 수 있는 차세대 기술이다. 고성능 소자를 종전보다 낮은 제조 비용으로 양산할 수 있으며, 특히 LCD는 물론 능동형(AM) 유기발광다이오드(OLED), 박막 태양전지, 발광다이오드(LED), 센서 등에도 광범위하게 응용할 수 있다. 삼성전자가 미래 기술을 선점한 것으로 평가된다. 삼성전자는 최근 종합기술원에서 비정질 산화물 TFT 신기술을 개발하는데 성공, 15일(현지시각) 미국 샌프란시스코에서 열린 ‘2008 세계전자소자학회(IEDM)’서 발표한다. 이 기술은 기존 산화물 TFT의 단일 채널 구조를 이중 채널 구조로 바꿔 전자 이동도를 종전보다 3배 이상 높은 최고 130㎠/V·sec 수준으로 구현했다. 전자 이동도가 향상되면 디스플레이·반도체 소자의 화질과 처리용량을 동시에 개선할 수 있다. 평판 디스플레이의 해상도가 풀HD급을 넘어 최근 초고화질(UD)급 해상도로 발전해가는 추세에서 대용량 데이터 처리에 따른 화면 구동 속도 지원이 가능하다. 또한 TFT를 동작시키는 ‘문턱전압’도 함께 제어, 각종 반도체 센서에도 연계할 수 있도록 했다. 특히 이번 비정질 산화물 TFT 기술은 현재 LCD 패널 양산 공정을 그대로 활용하는 동시에 주변 회로를 패널에 내장함으로써 제조 원가를 크게 낮출 수 있다. 삼성전자는 이 기술을 현재 LCD 패널외에도 AM OLED, 플렉서블 디스플레이, 투명 디스플레이, 태양전지, LED, 센서 등에 폭넓게 적용할 수 있을 것으로 기대했다. 이 회사의 김영환 전무는 “중장기적으로 미래형 디스플레이외에도 반도체 주변회로까지 응용을 확대해 향후 반도체 소자의 핵심 기술로 발전시켜 나갈 수 있을 것”이라고 말했다. 한편 삼성SDI도 지난 5월 비정질 산화물 TFT 기술을 적용한 세계 최고 해상도의 AM OLED 패널을 세계 처음 개발하는데 성공한 바 있다. 서한기자 hseo@etnews.co.kr

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