해피레포트 - 표면처리

카테고리 : 레포트 > 기타 파일이름 :.hwp 문서분량 : 3 page 등록인 : CPIA_jykim 문서뷰어 : 한글뷰어프로그램 등록/수정일 : 07.05.50 / 09.12.29 구매평가 : 다운로드수 : 1 판매가격 : 1,000 원

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1. 헐셀 시험법 2. 와트욕 3. 니켈 도금의 일상 관리 4. 크롬도금 표준액 5. 3가 크롬을 만들어 주는 방법 6. 걸이 7. 도금방지처리 8. 양극처리 1. 헐셀 시험법 - 음극 시험판에 연속되는 넓은 범위의 전류 밀도에서 석출이 되도록 한 것이다. ● 석출상태 관리 - 화학 성분으로는 얻을수 없는 성분 - 화학 분석으로는 시간이 걸리는 성분 - 상당히 미량이면서 도금에 영향을 주는 성분 - 도금층의 형상과 잘래에 생길지도 모르는 액의 사고를 예측 ● 가장 좋은 예는 불순물의 검출, 피트 발생, 광택제의 과 부족, 내부응력, 광택제 소모량 등 많은 것을 알아 낼수 있다. - 음극 : 광택있는 평활한 구리판, 황동판 또는 철판을 사용 - 양극 : 용해성 양극판을 사용

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