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[소재공정실험] 박막공학 - PVD 와 CVD에 관해


카테고리 : 레포트 > 공학,기술계열
파일이름 :[소재공정실험] 박막공학 - PVD.pptx
문서분량 : 13 page 등록인 : leewk2547
문서뷰어 : MS-파워포인트뷰어프로그램 등록/수정일 : 13.03.04 / 13.03.04
구매평가 : 다운로드수 : 0
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보고서설명
원리 및 종류 그리고 특징









원리 및 종류 그리고 특징
본문일부/목차
부피대비 표면적 비율이 높은 막을 의미하며 ㎚ ~ ㎛ 단위를 지닌다.


1. 증착 하려는 source material을 도가니에 넣고 가열.

2. Source material이 기체상태가 되어 기판의 표면에 충돌.

3. 충돌된 기체상태의 금속원자가 기판에 증착됨.

높은 에너지를 갖는 미립자들에 의한 충돌에 의해 target이라 불리는
물질의 표면으로부터 떨어져 나오는 원자를 증착.


기체 상태에서 계속 가열하면, 이온핵과 자유전자로 이루어진 입자들의 집합체가 만들어지는데 이를 Plasma라 하며 전기적으로 중성상태를 지닌다. 또한 고체, 액체, 기체와 더불어 제 4의 물질상태 라고도 불리기도 한다.
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소재공정실험

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