해피레포트 - [반도체공학] 반도체 사진공정

카테고리 : 레포트 > 공학,기술계열 파일이름 :사진공정.ppt 문서분량 : 85 page 등록인 : 1aroma1 문서뷰어 : MS-파워포인트뷰어프로그램 등록/수정일 : 08.10.20 / 08.10.20 구매평가 : 다운로드수 : 1 판매가격 : 1,800 원

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목차 1. Photolithograpy overview 2. Critical Dimension, Overall Resolution 3. Resist Profile 4. Resolution in Photolithography 5. Next-Generation lithography 6. Emerging Lithography 7. Example 본문내용 1. Photolithography Overview Introduction In the IC industry, pattern transfer from masks onto thin films is accomplished almost exclusively via photolithography Mask The stencil used to repeatedly generate a desires pattern on resist- coated wafers is called a mask Types of MASK Hard surface MASK Made by Cr, FeO on glass Permanence, Expensive Emulsion MASK Made by thin gelatin file on thin glass Semi-Permanence(3 ~ 5 times), Cheapness

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