 |
 |
 |
 |
| 레포트 |
 포토리소그래피 실험 [새창]
|
| [공학,기술계열] 등록일: 2013/03/13 | 등록자: leewk2547 | 판매가격: 2,000 원 |
| 1. 포토리소그래피(Photolithography) ⅰ) 포토리소그래피(Photolithography)란? ⅱ) 포토리소그래피(Photolithography) 공정 과정 b) Type of Photoresist(PR) c) Soft Bake d) Hard Bake e)... |
5pages | 다운로드 3 | 구매평가  |
 반도체공정 실험 - Photo Lithography [새창]
|
| [공학,기술계열] 등록일: 2015/03/16 | 등록자: leewk2547 | 판매가격: 2,000 원 |
| 이번 실험에서 PR두께는 1~2micro meter로, Developing time은 90sec로 고정하며 Exposure time을 2, 5 10sec로 변화를 주어 노광 시간을 조정함에 따라 PR공정 결과에 어떤 영향을 주는지 확인하고자 한다. |
| 3pages | 다운로드 3 | 구매평가 |
 <세계 나노기술 현장을 찾아서>(17)케임브릿지 캐번디시 연구소. [새창]
|
| [기타] 등록일: 2002/04/29 | 등록자: etnews | 판매가격: 300 원 |
| <세계 나노기술 현장을 찾아서>(17)케임브릿지 캐번디시 연구소. |
| 1pages | 다운로드 0 | 구매평가 |
| 방송통신 |
| 서식 |
