레포트 |
반도체공정 실험 - Photo Lithography [새창] |
[공학,기술계열] 등록일: 2015/03/16 | 등록자: leewk2547 | 판매가격: 2,000 원 |
위에 패턴을 형성하는 공정인 ‘Photo lithography’를 실시하며 FE-SEM을 이용하여 PR inspection을 측정한다. 이번 실험에서 PR두께는 1~2micro meter로, Developing time은 90sec로 고정하며 Exposure time을... |
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반도체공정 실험 - Dry etching [새창] |
[공학,기술계열] 등록일: 2015/03/16 | 등록자: leewk2547 | 판매가격: 2,000 원 |
실험 목적 MOS CAP을 제작하는 전체의 공정에서 ‘Photolithography’ 공정을 실시한 후 Si기판을 플라즈마를 이용하여 식각하는 공정인 ‘Dry etching’을 실시하며 FE-SEM을 이용하여 SiO2 inspection을... |
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반도체공정 실험 - Cleaning & Oxidation [새창] |
[공학,기술계열] 등록일: 2015/03/16 | 등록자: leewk2547 | 판매가격: 2,000 원 |
실험 목적 MOS CAP을 제작하는 전체의 공정에서 첫 번째 공정에 해당하는 ‘Wafer cleaning & Oxidation’ 공정을 실시한다. 산화 온도를 고정하고 산화 시간을 조정 하였을 때 Oxide 층의 두께 변화에 어떤 영향을... |
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재료공학 - 면저항 측정 실험 [새창] |
[공학,기술계열] 등록일: 2012/05/18 | 등록자: leewk2547 | 판매가격: 500 원 |
실험목적 : 면저항의 개념을 알고, 직접 면저항을 측정해봄으로써 면저항을 측정하는 이유와 면저항을 줄일 수 있는 방법을 연구한다. 2. 이론 면저항은 얇은 박막의 저항을 측정하는 것인데 박막이라 하는 것은... |
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[나눔의 IT문화 이제는 학교다](7)e여름방학을 알차게 [새창] |
[기타] 등록일: 2006/07/20 | 등록자: etnews | 판매가격: 300 원 |
[나눔의 IT문화 이제는 학교다](7)e여름방학을 알차게 |
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방송통신 |
서식 |
[자기소개서] 반도체 및 디스플레이 파트 지원자 자기소개서 [그룹사 인사팀 출신 현직 컨설턴트 작성] [새창] |
[자기소개서] 등록일: 2009/03/01 | 등록자: yunhos | 판매가격: 900 원 |
반도체 및 디스플레이 파트 지원자에 맞게끔 컨설팅 진행 ◆ 각각의 카피성 소제목을 기술하여 본인만의 차별성 강조 ◆ 실제 서류전형 합격자에 대한 자기소개서 ◆ 대기업 인사팀 출신의 현직 컨설턴트 작성 자료... |
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[반도체] 반도체,LCD 응시자 합격 자기소개서 [새창] |
[자기소개서] 등록일: 2009/02/21 | 등록자: love | 판매가격: 700 원 |
반도체,LCD 응시자 합격 자기소개서 입니다. 실제 파일은 총 2페이로 구성되어 있습니다. |
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자기 소개서 - 삼성SDI [새창] |
[자기소개서] 등록일: 2024/01/23 | 등록자: iscientist | 판매가격: 4,000 원 |
반영합니다. 저희는 자료와 정보를 기반으로 자기소개서를 작성하고, 고객들이 더 많은 면접 기회를 얻을 수 있도록 도와드립니다. 자기소개서 작성은 취업 과정에서 중요한 부분 중 하나입니다. 우리는 고객들이... |
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