통합검색
레포트
방송통신
서식
인문,어학계열
사회과학계열
교육계열
공학,기술계열
자연과학계열
의학계열
예체능계열
기타
레포트
> 공학,기술계열
정확도순
최신등록순
다운높은순
분량많은순
낮은가격순
높은가격순
Si
wafer
KOH etching-실리콘 웨이퍼 에칭 실험 계획, 결과
[새창]
→미리보기
[공학,기술계열]
등록일: 2024/05/19 | 등록자:
iscientist
| 판매가격:
5,000 원
Si
wafer
KOH etching-실리콘 웨이퍼 에칭 실험 계획, 결과 주제에 대해 정성껏 조사하여 작성한 레포트로 a+ 받은 자료입니다. 많은 도움 되시길 기원 드립니다.
5
pages | 다운로드
0
| 구매평가
[반도체] Silicon
wafer
실리콘 웨이퍼에 관해 (A+레포트)
[새창]
→미리보기
[공학,기술계열]
등록일: 2008/10/07 | 등록자:
ladyyes
| 판매가격:
2,000 원
Silicon
wafer
실리콘 웨이퍼에 관한 조사 a+ 맞은 레포트에요... 도움되셨으면합니다.
7
pages | 다운로드
4
| 구매평가
화학공학 -
wafer
cleaning(웨이퍼 세척) 과제
[새창]
→미리보기
[공학,기술계열]
등록일: 2014/06/19 | 등록자:
leewk2547
| 판매가격:
2,000 원
Particles- 먼지, 꽃가루, clothing particles, 박테리아 등. 보통의 공간(1큐빅 피트 안에)에는0.5 micron 이상 크기의 입자 10 6 개 이상 있다. 20 micron 이상의 지름을 갖는 입자의 경우 쉽게 가라 앉으므로...
8
pages | 다운로드
0
| 구매평가
반도체 실험, 논문형식(영문)
[새창]
→미리보기
[공학,기술계열]
등록일: 2016/06/29 | 등록자:
psawon
| 판매가격:
2,000 원
세종대학교 신소재공학과 3학년 반도체 실험 레포트입니다. A+받은 자료입니다. 참고하시면 좋을 것 같습니다.
8
pages | 다운로드
0
| 구매평가
에칭한 다결정 웨이퍼 관찰
[새창]
→미리보기
[공학,기술계열]
등록일: 2013/03/08 | 등록자:
rosebudp
| 판매가격:
1,500 원
목적 : 에칭 시간이 다결정 웨이퍼에 미치는 영향을 조직 관찰을 통해 알아본다. 실험 보고서 양식을 모두 만족하는 레포트입니다. ☆★ 관찰 사진과 실험 과정 사진이 다수 첨부되어있습니다. ★☆
8
pages | 다운로드
0
| 구매평가
반도체 공학 - 반도체 제조 공정 단계
[새창]
→미리보기
[공학,기술계열]
등록일: 2015/03/17 | 등록자:
leewk2547
| 판매가격:
2,000 원
단결정 성장 규소봉 절단
Wafer
표면 연마 회로 설계 Mask 제작 산화공정 감광액 도포 노광공정 현상공정 식각공정 이온주입공정 화학기상 증착 금속배선
Wafer
자동선별
Wafer
절단 칩 집착 금속연결 성 형
11
pages | 다운로드
2
| 구매평가
반도체공정 실험 - Photo Lithography
[새창]
→미리보기
[공학,기술계열]
등록일: 2015/03/16 | 등록자:
leewk2547
| 판매가격:
2,000 원
MOS CAP을 제작하는 전체의 공정에서 ‘
Wafer
cleaning & Oxidation’ 공정을 실시한 후 Si기판 위에 패턴을 형성하는 공정인 ‘Photo lithography’를 실시하며 FE-SEM을 이용하여 PR inspection을 측정한다. 이번...
3
pages | 다운로드
3
| 구매평가
반도체공정 실험 - Cleaning & Oxidation
[새창]
→미리보기
[공학,기술계열]
등록일: 2015/03/16 | 등록자:
leewk2547
| 판매가격:
2,000 원
제작하는 전체의 공정에서 첫 번째 공정에 해당하는 ‘
Wafer
cleaning & Oxidation’ 공정을 실시한다. 산화 온도를 고정하고 산화 시간을 조정 하였을 때 Oxide 층의 두께 변화에 어떤 영향을 주는지 확인하여본다....
4
pages | 다운로드
0
| 구매평가
반도체 실험, 논문형식(영문)
[새창]
→미리보기
[공학,기술계열]
등록일: 2016/06/29 | 등록자:
psawon
| 판매가격:
1,800 원
세종대학교 신소재공학과 3학년 반도체 실험 레포트입니다. A+받은 레포트이며 많은 도움 되었으면 좋곘습니다.
7
pages | 다운로드
0
| 구매평가
반도체 실험, 논문형식(영문)
[새창]
→미리보기
[공학,기술계열]
등록일: 2016/06/29 | 등록자:
psawon
| 판매가격:
1,400 원
세종대학교 신소재공학과 3학년 반도체 실험 레포트입니다. A+받은 레포트이며 많은 도움 되었으면 좋곘습니다.
5
pages | 다운로드
0
| 구매평가
반도체 실험, 논문형식(영문)
[새창]
→미리보기
[공학,기술계열]
등록일: 2016/06/29 | 등록자:
psawon
| 판매가격:
1,800 원
세종대학교 신소재공학과 3학년 반도체 실험 레포트입니다. A+받은 자료이며 도움이 되었으면 좋겠습니다.
7
pages | 다운로드
0
| 구매평가
반도체공학 실험 - Metal Deposition
[새창]
→미리보기
[공학,기술계열]
등록일: 2015/03/16 | 등록자:
leewk2547
| 판매가격:
2,000 원
실험 목적 MOS CAP을 제작하는 전체의 공정에서 ‘Dry etching’을 실시한 후 Si기판 위에 금속을 증착시키는 공정인 ‘Metal deposition’을 실시하여 기판의 면저항을 측정한다. 증착시키는 금속을 Ni로 증착...
4
pages | 다운로드
1
| 구매평가
반도체공학 실험 - Annealing(Silcidation)
[새창]
→미리보기
[공학,기술계열]
등록일: 2015/03/16 | 등록자:
leewk2547
| 판매가격:
2,000 원
MOS CAP을 제작하는 전체의 공정에서 ‘Metal deposition’을 실시한 후 실리콘 기판 위에 규소화합물(Silicide)를 구성하기 위하여 내열성 금속과 실리콘을 합금하는 과정을 실시한다. 이 때 RTP를 통해 어닐링을...
3
pages | 다운로드
0
| 구매평가
반도체공정 실험 - Dry etching
[새창]
→미리보기
[공학,기술계열]
등록일: 2015/03/16 | 등록자:
leewk2547
| 판매가격:
2,000 원
실험 목적 MOS CAP을 제작하는 전체의 공정에서 ‘Photolithography’ 공정을 실시한 후 Si기판을 플라즈마를 이용하여 식각하는 공정인 ‘Dry etching’을 실시하며 FE-SEM을 이용하여 SiO2 inspection을...
6
pages | 다운로드
1
| 구매평가
반도체 공통 용어집
[새창]
→미리보기
[공학,기술계열]
등록일: 2012/11/22 | 등록자:
css7161
| 판매가격:
2,000 원
반도체 산업에서 많이 사용하는 용어를 모은 자료입니다. 기본적으로 반도체산업에서 근무전에 현장에서 많이 사용하는 용어를 습득하면 업무적응면에서 매우 쉬울것 입니다
10
pages | 다운로드
0
| 구매평가
rindex = [1]
1
2
회사소개
|
이용약관
|
저작권 규정
|
개인정보 취급방침
|
고객센터
|
1:1문의
|
이메일무단수집거부
|
책임의 한계와 법적고지