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포토리소그래피 실험 [새창] →미리보기

[공학,기술계열] 등록일: 2013/03/13 | 등록자: leewk2547 | 판매가격: 2,000 원

1. 포토리소그래피(Photolithography) ⅰ) 포토리소그래피(Photolithography)란? ⅱ) 포토리소그래피(Photolithography) 공정 과정 b) Type of Photoresist(PR) c) Soft Bake d) Hard Bake e)...

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반도체공정 실험 - Photo Lithography [새창] →미리보기

[공학,기술계열] 등록일: 2015/03/16 | 등록자: leewk2547 | 판매가격: 2,000 원

이번 실험에서 PR두께는 1~2micro meter로, Developing time은 90sec로 고정하며 Exposure time을 2, 5 10sec로 변화를 주어 노광 시간을 조정함에 따라 PR공정 결과에 어떤 영향을 주는지 확인하고자 한다.

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<세계 나노기술 현장을 찾아서>(17)케임브릿지 캐번디시 연구소. [새창]

[기타] 등록일: 2002/04/29 | 등록자: etnews | 판매가격: 300 원

<세계 나노기술 현장을 찾아서>(17)케임브릿지 캐번디시 연구소.

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