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    • 공학,기술계열
    • 2012/05/17 leewk2547 4 페이지 1,200원 다운 1회 구매평가 
    • 제목 : 산화 공정 (Oxidation) 목적 : 반도체 소자 제조 공정 중 하나로 고온에서 산소나 수증기를 주입시키고 열을 가해실리콘 웨이퍼 표면에 얇고 균일한 실리콘 산화막을 형성 시키는 공정이다. 실리콘산화막은...
    • 공학,기술계열
    • 2013/07/30 leewk2547 7 페이지 2,000원 다운 0회 구매평가 
    • Ⅰ. 서론 1.1. 실험의 정의 및 필요성 1.2. 목적 2.인장시험의 이론 2.1. 인장 시험의 이론적배경 2.2.인장시험의 고정방식 2.3인장시험 세부적인 이론 Ⅱ. 본론 ·· 2. 실험방법 Ⅲ. 결과 및 고찰...
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